铝合金上低温钛锆转化膜快速成膜工艺

发布时间：2024-02-24 03:57

　　采用正交试验和单因素试验研究了在6063铝合金上低温快速制备钛锆转化膜的工艺,得到的最佳转化液配方为:H₂TiF₆2.0 g/L,H₂ZrF₆ 0.8 g/L,氧化剂(偏钒酸钠)3.0 g/L,配位剂(单宁酸)4.0 g/L,pH=3.2。X射线光电子能谱的分析结果显示,膜层的主要组分为金属氧化物(Al₂O₃、VO₂、V₂O₅、ZrO₂、TiO₂)、金属氟化物(AlF₃、ZrF₄)及金属有机配位化合物。不同低温条件下工艺的最佳成膜时间为:5℃,300～350 s;10℃,150～200 s;15℃,100～150 s;20℃,60～120 s。

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【部分图文】：

图2pH对转化膜耐蚀性的影响

图1氧化剂质量浓度对转化膜耐蚀性的影响2.2.3配位剂的质量浓度

图1氧化剂质量浓度对转化膜耐蚀性的影响

固定钛锆转化液中其他影响因素不变，即H2TiF62.0g/L,H2ZrF60.8g/L，氧化剂3.0g/L，配位剂4.0g/L，温度5°C，转化时间5min，调节不同的pH(2.6～4.1)后对试样进行转化处理。由图2可知，随pH提高，转化膜的耐蚀性先增强后减弱....

图3配位剂质量浓度对转化膜耐蚀性的影响

固定钛锆转化液中其他影响因素不变，即H2TiF62.0g/L,H2ZrF60.8g/L，氧化剂3.0g/L，温度5°C，转化时间5min,pH=3.2，不同配位剂质量浓度(2.5～5.0g/L)下所制试样的耐蚀性如图3所示。配位剂的质量浓度增大，转化膜的耐蚀性也就....

图5不同温度下进行转化处理的开路电位-时间曲线

开路电位与时间曲线可反映膜层的生长过程。从图5可见，开路电位随时间先减小后增大，与成膜过程中的3个阶段相对应：(1)AB段──铝基体在酸性溶液中发生腐蚀，电位急剧下降；(2)BC段──开始在铝合金表面微区成膜，阳极反应受到阻碍，电极电位逐渐升高；(3)CD段──膜层完全覆盖铝合金....

本文编号：3908486