掺杂与图案化对Fe基软磁薄膜动态磁性的影响

发布时间:2020-12-01 20:24
  铁磁共振以及自旋波共振是铁磁体中磁矩的集体激发模式。软磁薄膜由于具有高共振频率与磁导率等优势,被广泛应用于电子元器件中。近年来,电子元器件逐渐向微型化、高频化、集成化、多频化等方向发展,这对应用其中的软磁薄膜提出了更高的要求。因此,对于软磁薄膜动态磁性,特别是共振频率和磁导率的研究是十分必要的。本论文基于电化学沉积和磁控溅射方法研究了Fe基软磁薄膜的动态磁性。另外,通过图案化设计研究了坡莫合金薄膜的自旋波激发。主要内容如下:1、采用电化学沉积方法研究了C和Ce元素掺杂对FeCo合金薄膜磁性的影响。研究发现改变掺杂浓度可调控样品的晶体结构,并发现掺杂可优化FeCo薄膜的软磁性能,另外电沉积参数对样品的矫顽力、共振频率等具有调控作用。2、利用共溅射方法成功制备了FeNi-MgO颗粒膜,并通过改变MgO溅射功率、倾斜溅射角度以及热处理温度来实现FeNi-MgO动态磁性的调控。结果表明MgO溅射功率能够调控样品的共振频率和阻尼,同时倾斜溅射也是调控样品共振频率的有效方法。并且经由200 oC和500 oC热处理后,磁谱表现为两个共振模式。另外,通过氩... 

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【部分图文】:

掺杂与图案化对Fe基软磁薄膜动态磁性的影响


(a)自旋行波和(b)自旋驻波

模式图,自旋波,薄膜,磁性


兰州大学博士学位论文掺杂与图案化对Fe基软磁薄膜动态磁性的影响7图1-2(a)磁化强度位于磁性薄膜平面内,在薄膜内部可激发三种模式自旋波:PSSW、MSBVW和DEwave;(b)磁化强度垂直于磁性薄膜平面,在薄膜内部可激发两种模式自旋波:PSSW和MSFVW[98]1.2.4自旋波的探测任何事物的出现与探索都需要经历一定的过程,对于自旋波的探索也遵循这一规律。起初,人们更多的着眼于自旋波的激发,随后如何准确的探测自旋波成为研究者关注的重点。自旋波发展至今,常用的典型探测方法有:1)中子散射[99]:中子是一种较为特殊的核子,不带电荷却具有自旋属性且有很强的穿透性。中子入射到材料中,与材料的晶格、原子等相互作用,最终出射的中子携带有材料的信息。中子散射可探测位于交换作用区的自旋波,并且测试过程中可以转换角度。2)共振吸收法[100-102]:受到微波的扰动,磁矩将会绕着有效场进动,当外加能量与磁矩进动的能量相等时,将发生强烈的共振吸收。共振吸收法需要用微波激发、可探测自旋驻波、探测分辨率高。3)布里渊光散射法(BLS)[103-106]:BLS方法以自旋波的非弹性散射作为探测基矗一束光入射到磁性材料上,光子与磁性材料相互作用,出射光带有磁性材料的信息。BLS是研究磁性薄膜自旋波的一种方便有效的方法。具有可探测整个布里渊区的自旋波谱、测试过程中通过改变散射的几何安排,可以得到不同方向传播的自旋波谱、可同时探测体波(驻波)、表面波和声子激发,探测灵敏度高等优势。与共振吸收法相比,BLS不需要微波激发并且可以探测相同频率不同波矢的自旋波。4)时间分辨的磁光克尔显微镜(TRMOKE方法)[107-109]:TRMOKE方法以磁光克尔效应为基础对磁性薄膜磁矩的动态性能进行探测。具有优异的时间分辨性,可以对

空间分布,磁棒,磁化强度


兰州大学博士学位论文掺杂与图案化对Fe基软磁薄膜动态磁性的影响18其中,Nd为退磁因子,是磁化强度矢量与z轴的夹角,Ms是铁磁性材料的饱和磁化强度。当=90o时,磁化强度垂直于z轴,退磁因子为0,退磁能最校当=0o时,磁化强度平行于z轴,此时退磁因子为1,退磁能最大。因此对于无限大均匀薄膜,磁矩分布在薄膜表面内是最稳定的状态,薄膜膜面为易磁化面。图2-1一个磁棒内部和外部的磁化强度分布[3]体退磁场又称为偶极作用等效场,是一种局域的退磁场[4],它是磁矩空间分布不均匀而产生的,即使在无限大的磁性体系中,在不考虑边界处自由磁极的情况下,它依然是存在的。假设磁化强度是时间和空间的函数,则:()()()000,,ikrkkMrtMmrtMmte=+=+(2-5)在考虑偶极相互作用的情况下,磁矩的进动产生自旋波。由于自旋波的波长比该材料中电磁波的波长大得多。因此麦克斯韦方程中的推迟项Dt可以忽略,则:00dipHB==(2-6)由于()dipB=M+H,则可得到:()2dipH=M(2-7)设()()0,ikrdipdipHrtHte=(2-8)则22dipdipH=kH(2-9)根据式(2-5)和(2-7),有:

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本文编号:2895029

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