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内源GSH参与低温胁迫下外源NO调控黄瓜叶片光合特性及叶绿体抗氧化的作用

发布时间:2024-03-04 22:37
  黄瓜(Cucumis sativus L.)属于葫芦科一年生蔓生或攀援草本植物,具有高冷敏感性。中国各地普遍栽培,在保护地冬春栽培中常遭遇低温伤害,影响其生长发育、产量和品质,低温导致细胞脱水,光合机构、植物膜系统损伤,抑制叶绿体发育,造成活性氧大量积累、代谢紊乱和生长破坏等,因此研究增强黄瓜耐低温能力具有重要意义。一氧化氮(nitric oxide,NO)不仅是一种生物活性物质,同时也是一种信号分子,它参与许多生长过程和胁迫应激反应,浓度适宜时的NO以多种方式参与调控植物对各种逆境胁迫的反应过程。如盐害、高温、低温、干旱等。本研究以基质培津研4号黄瓜幼苗为试材,置光周期14 h/10 h、昼夜温度25℃/20℃光照培养箱内,叶面喷施一氧化氮NO供体(SNP,亚硝基铁氰化钠)、GSH合成酶抑制剂(BSO,丁硫氨酸亚砜胺)、NADPH合成酶抑制剂(6-AN,6-氨基烟酰胺),24 h后昼夜温度降至10℃/6℃,研究GSH参与低温胁迫24 h后外源NO对黄瓜幼苗叶片细胞膜透性、气体交换参数、叶绿素荧光参数等以及叶绿体细胞内抗氧化酶活性以及氧化还原状态的变化。得到以下结论:1、低温胁迫24 ...

【文章页数】:56 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

图3-8GSH参与低温胁迫下外源NO对黄瓜叶片VJ、φEo、WK、Mo、ψo、φPo、FO-K、FK-J、FJ-I和FI-p荧光参数的影响

图3-8GSH参与低温胁迫下外源NO对黄瓜叶片VJ、φEo、WK、Mo、ψo、φPo、FO-K、FK-J、FJ-I和FI-p荧光参数的影响

图3-8GSH参与低温胁迫下外源NO对黄瓜叶片VJ、φEo、WK、Mo、ψo、φPo、FO-K、FK-J、FJ-I和FI-p荧光参数的影响Fig.3-8GSHinvolvedintheeffectofexogenousnitricoxideon....


图3-14GSH参与低温胁迫下外源NO对黄瓜幼苗叶片H2O2和O2-组织化学染色Fig.3-14GSHinvolvedintheeffectofexogenousnitricoxideonDABStainingforH2O2andO2˙-of

图3-14GSH参与低温胁迫下外源NO对黄瓜幼苗叶片H2O2和O2-组织化学染色Fig.3-14GSHinvolvedintheeffectofexogenousnitricoxideonDABStainingforH2O2andO2˙-of

内源GSH参与低温胁迫下外源NO调控黄瓜叶片光合特性及叶绿体抗氧化的作用-13GSHinvolvedintheeffectsofexogenousnitricoxideontheexpressionofantioxidantenzyrelat....



本文编号:3919275

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