从ASML和Nikon专利诉讼案例看国产光刻设备知识产权建设

发布时间：2022-07-03 12:08

　　光刻设备是集成电路（IC）制造的核心设备,是高科技强国的战略性产品,也是当前国际科技竞争的主要战场和博弈焦点。目前,全球的高端光刻机市场已被荷兰ASML公司垄断,且其具备严密的全球知识产权布局。而光刻设备的国产替代作为市场后入者,知识产权建设起步晚,并不占据优势地位。通过对光刻领域两大国际巨头ASML和Nikon在各自产品发展过程中不同阶段发生的专利诉讼案例的全面分析,探究在集成电路（或半导体）这样的技术密集型产业领域,知识产权诉讼中国际行业巨头常用的策略和技巧,进而得到对国产光刻装备知识产权建设的重要启示。 

【文章页数】：8 页

【文章目录】：
1 案例概况
    1.1 公司背景介绍
    1.2 专利布局情况
    1.3 诉讼过程概述
        1.3.1 第一阶段:2001年-2004年
        1.3.2 第二阶段:2016年-2019年
2 专利策略分析
    2.1 荷兰ASML公司
        2.1.1 收购专利
        2.1.2 收购供应商
        2.1.3 发起“337调查”
        2.1.4 提起反诉
    2.2 日本Nikon公司
        2.2.1 主动攻击
        2.2.2 无效诉讼
3 诉讼结果
    3.1 昂贵的诉讼成本(法律风险)
    3.2 原告方风险(法律风险、市场风险、技术风险)
    3.3 被告方风险(法律风险、市场风险)
4 对国产光刻设备知识产权建设的启发
    4.1 国产光刻设备知识产权现状
    4.2 跨国企业专利诉讼启示
        4.2.1 专利方案
        4.2.2 专利布局
        4.2.3 积极行使诉讼权利


【参考文献】：
期刊论文
[1]第二届中国国际进口博览会盛大开幕[J]. 周新月.  商业文化. 2019(31)
[2]中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程回顾与现状[J]. 陈宝钦.  微细加工技术. 2006(01)
[3]光学光刻现状及设备市场[J]. 童志义.  电子工业专用设备. 2002(01)



本文编号：3654811